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CMOS技术中集成电路的ESD保护设计


ESD是静态释放的电荷(静电)。这主要是由停留在特定表面或环境空气中的电子失衡造成的。由电子的缺乏或过剩引起的电子不平衡会导致电场,该电场能够远距离影响其他物体。

ESD也指的是当两个带相反电荷的物体相互接触时发生的情况。如果这两个物体距离足够近,则会释放电压,产生电压尖峰,并产生电磁场。

我们会定期观察ESD的影响。研究发现,一个典型的人体在一个8小时的工作日内可以积累5002500伏的电荷(称为静电势)。但是,在25伏左右会损坏电子部件。

静电防护的重要性

ESD故障是集成电路(IC)和其他电子系统最具挑战性的可靠性问题之一。实际上,行业统计数据表明,超过30%的IC故障是由ESD或电过载(EOS)事件引起的,每年给行业造成数十亿美元的损失。

但是,知道存在问题和解决该问题并不是相互排斥的。此外,当前的解决方案不是万能的解决方案。尽管这些EMI(电磁干扰)确实可能给电子系统带来同等程度的危险,但是它们的攻击方法并不统一。

了解如何防止EOS事件可以节省时间和金钱

众所周知,所有IC和其他电子产品都需要ESD保护。但是,并非每种预防措施对于遇到的每种ESD模型都同样有效。在接下来的几段中,我将进一步阐述它们所构成的不同模型和保护问题。正如我之前所避免的,这也将进一步说明,不保证一种尺寸适合所有方法。

ESD应力模型的类型

ESD可能在各种情况下发生。为了更好地解决这些问题,已将这些ESD应力模型分为三种特定类型或模型。ESD应力模型的三种类型是人体模型(HBM),机器模型(MM)和充电设备模型(CDM)。

这三个基本模型在行业中用于测量ICESD保护水平,并评估ESD应力在不同情况下的影响。

人体模型

顾名思义,HBM表示由ESD现象引起的ESD应力,该现象在带静电的人体接触芯片并形成放电路径时发生。 

机器型号

MM表示ESD应力,该现象是由带电的带电荷的机器或工具与芯片接触并在生产线上形成向地面的放电路径时发生的现象引起的。

充电设备型号

CDM是一种在制造,生产或运输过程中对IC(集成芯片)充电的方案。此外,在IC与任何导体或地线接触后,电荷在IC内部和外部之间发生转移。

CMOS技术中的ESD保护设计

CMOS技术中的集成电路需要静电放电(ESD)保护设计。CMOS技术中的ESD保护器件的选择包括二极管,MOSFET和可控硅整流器(SCR)。

但是,这些ESD保护设备具有一些不良的副作用。简而言之,由于寄生电容,它们会在高频输入/输出(I / O)焊盘上造成信号损耗。因此,为了使这些ESD保护电路对高频性能的影响最小,必须仔细设计I / O焊盘上的ESD保护电路。

一旦能够减小寄生电容,就可以轻松地将ESD保护电路与高频电路组合或共同设计。随着高频电路工作频率的提高,针对高频应用的片上ESD保护设计将持续成为重要的设计因素。

CDM ESD保护设计挑战

近年来,随着自动机械和设备在生产线上的广泛使用,CDM已被证明是所有ESD应力模型中最具破坏性的放电机制。就ESD保护设计而言,CDM已逐渐成为最重要的问题。

创建ESD安全环境将有助于提高测试的可靠性 

CDM的最重要特征之一是低阻抗放电路径,这导致了极快的电荷转移。这个特殊的属性使CDM成为CMOS技术中ESD保护的设计考虑因素。这就是为什么在CDM放电期间,上升时间非常短(通常为0.25-0.75ns)的原因,这需要较短的CDM ESD保护设计触发时间。

另外,随着芯片集成技术的改进和新封装技术的发展,芯片的等效寄生电容增加。因此,导致芯片所携带的电荷量增加,并且这需要CDM ESD保护设计的保护能力得到提高。

总之,不能夸大CMOS技术中ICESD保护设计的重要性。随着IC在应用和功能方面的不断发展和功能的不断发展,很明显,ESD保护设计也必须发展。

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